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本文对近几年来等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）和等离子体质谱（ＩＣＰ－ＭＳ）在新型陶瓷材料分析中的应用进行了评述，讨论了应用ＩＣＰ－ＡＥＳ／ＭＳ技术测定陶瓷材料中痕量杂质的各种进样技术。引用文献６０篇。
等离子体原子发射光谱／质谱在新型陶瓷材料分析中的应用
【摘 要】
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本文对近几年来等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）和等离子体质谱（ＩＣＰ－ＭＳ）在新型陶瓷材料分析中的应用进行了评述，讨论了应用ＩＣＰ－ＡＥＳ／ＭＳ技术测定陶瓷材料中痕量杂质的各种进样技术。引用文献６０篇。
【机 构】
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武汉大学化学系
【出 处】
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分析科学学报
【发表日期】
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2000年1期
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