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【目的】探讨光生物调节和基质金属蛋白酶（MMP）抑制剂联合作用与大鼠正畸复发的相关性。【材料与方法】52只8周龄SD雄性大鼠（180~220g）随机分为四组每组12只剩余4只测MMP mRNA水平。期间的正畸移动后5天的复发期，上颌切牙由低水平激光治疗（LLLT），为光生物和/或强力霉素作为合成的MMP抑制剂处理。【结果】与对照相比复发率分别提高了LLLT（1.57倍）和强力霉素（0.83倍）降低，表现出与表达在牙周韧带（PDL）所有的MMP水平呈正相关。LLLT伴随强力霉素给药导致来自控制复发率和MMP表达的无显著差异。【结论】光生物的与周围的复发齿的MMP抑制剂的联合作用证明复发期间是对立的PDL重塑活性。这项研究表明开发一个新的生物学过程针对MMP-依赖PDL重塑控制复发率的基础。