【摘 要】
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The photolysis of uracil in phosphate-buffered saline (PBS, pH 8.0) under the irradiation of medium pressure mercury lamp (MPML) leads to the production of a no
【出 处】
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Chinese Chemical Letters
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The photolysis of uracil in phosphate-buffered saline (PBS, pH 8.0) under the irradiation of medium pressure mercury lamp (MPML) leads to the production of a novel compound C4H5N2O6P. The composition and structure of the compound has been identified by elemental analysis, EI-MS, UV, IR, 1H, 13C, 31P-NMR.
The photolysis of uracil in phosphate-buffered saline (PBS, pH 8.0) under the irradiation of medium pressure mercury lamp (MPML) leads to the production of a novel compound C4H5N2O6P. The composition and structure of the compound has been identified by elemental analysis, EI-MS, UV, IR, 1H, 13C, 31P-NMR.
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