ZnS:I单晶降阻条件的选择

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本文叙述了对碘化学输运法生长的ZnS:I单晶扩散Al杂质,制备低阻ZnS:I晶体的实验方法。在制备低阻ZnS:I单晶过程中,根据晶体内含I的浓度选择热退火条件,可较重复地得到Al浓度在10~(-1)g/g量级,电阻率在10—10~2Ω·cm范围的低阻ZnS单晶。讨论认为,在ZnS:I单晶退火过程中,I的存在有助于Al杂质的扩散。 This paper describes the experimental method of preparing low-resistance ZnS: I crystals by diffusion of Al impurity grown on ZnS: I single crystals by iodide chemical transport. In the process of preparing the low-resistance ZnS: I single crystal, the thermal annealing conditions are selected according to the concentration of I in the crystal, the Al concentration can be repeatedly obtained on the order of 10-1 g / g, the resistivity is in the range of 10-10 ~ 2Ω · cm range of low-resistance ZnS single crystal. Discussion that, in the ZnS: I single crystal annealing process, the presence of I contribute to the diffusion of Al impurities.
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