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用射频磁控溅射法制备了富硅二氧化硅薄膜.红外(IR)透射光谱表明退火过程中发生2SiOx→xSiO2+(2-x)Si化学反应.SiO2与纳米晶硅(nc-Si)界面上与氧有关的缺陷(NBOHC)是蓝光发射(2.8eV)的主要原因.用纯二氧化硅靶制备的样品有1.8eV的发光,可能与硅缺陷有关.
富硅二氧化硅薄膜的蓝色荧光特性研究
【摘 要】
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用射频磁控溅射法制备了富硅二氧化硅薄膜.红外(IR)透射光谱表明退火过程中发生2SiOx→xSiO2+(2-x)Si化学反应.SiO2与纳米晶硅(nc-Si)界面上与氧有关的缺陷(NBOHC)是蓝光发射
【机 构】
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上海海运学院工学院
【出 处】
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上海海运学院学报
【发表日期】
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2003年1期
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