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叙述了发射光谱法的终点监测原理，锁相放大技术在ＰＩＥ和ＲＩＥ工艺过程监测中的应用，并详尽地讨论了开关电容滤波器的原理，而且在电路设计中采用了跟踪开关电容滤波器的锁相放大器设计，从而提高了系统的动态范围，最后说明了该系统用于实际生产线所获得监测结果。
LSI离子刻蚀过程中的微弱信号提取及刻蚀过程的在线监测
【摘 要】
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叙述了发射光谱法的终点监测原理，锁相放大技术在ＰＩＥ和ＲＩＥ工艺过程监测中的应用，并详尽地讨论了开关电容滤波器的原理，而且在电路设计中采用了跟踪开关电容滤波器的锁相放大器设计，从而
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所
【出 处】
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光学精密工程
【发表日期】
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1994年4期
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