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离子注入法(IBS)合成新FeSi2相的显微结构研究
离子注入法(IBS)合成新FeSi2相的显微结构研究
来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lifang877
【摘 要】
:
本文主要以电子显微镜为手段研究了离子注入形成的FeSi2薄膜的微观结构,发现一种新的FeSi2相,这种相的晶格参数与已知的β-FeSi2相相似,但是它的点群和空间群分别为mmm和Pbca。
【作 者】
:
金星
李晓娜
张泽
董闯
宫泽祥
马腾才
【机 构】
:
中国科学院北京电镜实验室,三束材料改性国家重点联合实验室,IMEC
【出 处】
:
电子显微学报
【发表日期】
:
1997年2期
【关键词】
:
离子注入
金属硅化物
电子显微学
ion implantation metalsilicide electronmicroscopy
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本文主要以电子显微镜为手段研究了离子注入形成的FeSi2薄膜的微观结构,发现一种新的FeSi2相,这种相的晶格参数与已知的β-FeSi2相相似,但是它的点群和空间群分别为mmm和Pbca。
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