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自１９５９年集成电路发明以来，它对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小３０％，集成规和工１倍，芯片价格随之下降的惊人 展。光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素。本文综述了深亚微米光刻和纳米光刻技术。
超微细图形加工技术进展
【摘 要】
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自１９５９年集成电路发明以来，它对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小３０％，集成规和工１倍，芯片价格随之下降的惊人 展。光刻技术的发展始终是
【机 构】
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中国科学院微电子中心,国家外国专家局
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1998年2期
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