还原剂AS／NaOH体系在硫化黑染色中的应用

• 作 者: 张维 姚继明 崔淑玲
• 机 构: 河北科技大学纺织服装学院
• 出 处: 印染
• 发表日期: 2016年22期
• 关键词: 硫化染料 染色 还原电位 还原剂 染色性能 sulphur dye dyeing reduction potential reducing agent
• 基金项目: 河北省科技计划项目（16274003D）,石家庄市科学技术研究与发展计划（141191241A）.

选取环保型还原剂AS／Na0H作为还原体系用于硫化黑染色，研究染料和NaOH质量浓度对染液pH值、还原电位及染后织物K/S值、断裂强力、摩擦牢度等性能的影响。结果表明，提高染料质量浓度，染液pH值和还原电位随之升高，织物K/S值最高达28．42，强力略有降低，对牢度影响不明显；随着NaOH质量浓度增加，染液pH值和还原电位随之提高，染色织物K／S值先增加后降低，最大达28．36，织物强力由1079．8N逐渐降低到980．3N，对摩擦牢度影响不大。