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分析了Ｂｉ－ＹＩＧ磁光薄膜材料生长及其性能特点，着重介绍了计算辅助设计的系统在这一领域的应用－－Ｂｉ－ＹＩＧ磁光薄膜的设计及性能预测。
计算机辅助Bi—YIG磁光薄膜材料设计的专家系统研究
【摘 要】
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分析了Ｂｉ－ＹＩＧ磁光薄膜材料生长及其性能特点，着重介绍了计算辅助设计的系统在这一领域的应用－－Ｂｉ－ＹＩＧ磁光薄膜的设计及性能预测。
【机 构】
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武汉华中理工大学固电系,武汉华中理工大学固电系武汉430074,武汉430074,武汉430074
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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1996年5期
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