功率谱密度(PSD)在评价超精密光学表面中的应用研究

• 作 者: 刘耀红 滕霖 李大琪 张萧
• 机 构: 飞行自动控制研究所,飞行自动控制研究所,飞行自动控制研究所,飞行自动控制研究所 西安 710065,西安 710065,西安 710065,西安 710065
• 出 处: 航空精密制造技术
• 发表日期: 2006年02期
• 关键词: 功率谱密度 超精密光学元件 原子力显微镜 反射镜基片

用原子力显微镜对不同工艺下获得的超光滑反射镜基片进行了功率谱密度(PSD)检测,并对结果进行分析,以指导光学元件加工。

Atomic force microscope (AFM) was used to detect the power spectral density (PSD) of ultra-smooth mirror substrates obtained under different processes. The results were analyzed to guide the processing of optical components.