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在研究难熔金属氮化物/n-GaAs体系的势垒特性随退火温度的变化时,发现势垒特性温度提高而有所改善。深入研究发现,在负偏压预溅射氮离子后,难熔金属/n-GaAs的势垒特性仍有此变化。硅化物与砷化镓的接触本无此特性,但预溅射氮后出现此现象,因此,人们认为有可能N在GaAs表面形成或参与形成了一个P^+层。