热蒸发制备自支撑Al平面薄膜靶的参数测量

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以热蒸发工艺制备微结构可控的自支撑Al平面薄膜靶。该靶用于惯性约束聚变(ICF)精密化分解实验,研究驱动激光光束不均匀性对瑞利-泰勒流体不稳定性的影响,以卢瑟福背散射(RBS)俄歇电子能谱(AES),扫描电子显微镜(SEM)和α-step500台阶仪测量Al薄膜靶的靶参数,Al膜厚度为微米量级,表面稳定的氧化层厚度约为7nm,膜密度为2.312g·cm^-1,颗粒度0.1μm,表面粗糙度平均值为5
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