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该文提出了一种射频溅射镀膜的新方法，讨论了该方法对小孔径１０．６μｍＧｅ－Ａｇ－Ｎｉ空心波导制作的意义，利用该方法已制成样品，同时给出并比较了几个不同孔径样品的光透射率。
10,6μmGe—Ag—Ni空心波导射频测射镀膜的一种新方法
【摘 要】
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该文提出了一种射频溅射镀膜的新方法，讨论了该方法对小孔径１０．６μｍＧｅ－Ａｇ－Ｎｉ空心波导制作的意义，利用该方法已制成样品，同时给出并比较了几个不同孔径样品的光透射率。
【机 构】
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电子科技大学
【出 处】
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应用科学学报
【发表日期】
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1996年4期
【基金项目】
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国防科工委和电科院资助
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