【摘 要】
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法国汤姆逊—CSF公司的中心研究实验室已经使用低压金属有机化学气相淀积生长长波长光电子器件用高质量InP和有关化合物外延层。LPMOCVD是生长这类外延层的主要工艺。由于技
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法国汤姆逊—CSF公司的中心研究实验室已经使用低压金属有机化学气相淀积生长长波长光电子器件用高质量InP和有关化合物外延层。LPMOCVD是生长这类外延层的主要工艺。由于技术上的问题,通过液相外延难以获得大面积膜,而材料含有诸如磷之类的易挥发元素时,采用分子束外延淀积也困难。
France’s Thomson-CSF Center for Research Laboratories has used low-pressure metal-organic chemical vapor deposition to grow high-quality InP and related compound epitaxial layers for long-wavelength optoelectronic devices. LPMOCVD is the main process for growing such epitaxial layers. Due to technical problems, it is difficult to obtain a large area film by liquid phase epitaxy, and material containing a volatile element such as phosphorus is difficult to apply by molecular beam epitaxy.
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