【摘 要】
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氮化钛（TiN）由于其独特的物理、化学、光、电和机械等性能,近年来已成为材料研究热点。本文采用阴极离子镀膜法在304不锈钢基片上制备均匀致密的TiN薄膜。采用X射线衍射、扫描
【机 构】
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浙江大学材料科学与工程学院,浙江大学硅材料国家重点实验室
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氮化钛（TiN）由于其独特的物理、化学、光、电和机械等性能,近年来已成为材料研究热点。本文采用阴极离子镀膜法在304不锈钢基片上制备均匀致密的TiN薄膜。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、扫描探针显微镜、紫外可见分光光度计、红外光谱仪等方法研究了薄膜的物相、结构以及光电特性。结果表明,薄膜主要物相为TiN,在（111）晶面具有取向性,同时薄膜中含有少量的O杂质。薄膜表面较平整,颗粒结合紧密,有部分孔洞和小尺寸突起,表面粗糙度Rq约为21.21 nm,薄膜平均厚度约为0.896μm,在红外波段
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