【摘 要】
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EEPROM要求场开启电压≥20V,P-N结击穿电压也要求≥20V,前者需提高场区杂质浓度,而后者则需要降低场区杂质浓度。通过工艺模拟和实验找到了一种化解这个矛盾的对策:首先根据P-N结击穿电压的要求确定
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EEPROM要求场开启电压≥20V,P-N结击穿电压也要求≥20V,前者需提高场区杂质浓度,而后者则需要降低场区杂质浓度。通过工艺模拟和实验找到了一种化解这个矛盾的对策:首先根据P-N结击穿电压的要求确定场区杂质浓度,继而大幅度调节场氧厚度,从而使二者都能满足要求。
EEPROM requirements field turn-on voltage ≥ 20V, P-N junction breakdown voltage also requires ≥ 20V, the former need to improve the field impurity concentration, while the latter you need to reduce the field impurity concentration. Through process simulation and experiment, a solution to this contradiction was found. First, the impurity concentration in the field was determined according to the P-N junction breakdown voltage, and then the field oxygen thickness was greatly adjusted so that both could meet the requirements.
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