Prediction of the Interface Temperature Rise in Tribochemical Polishing of CVD Diamond

• 作 者: Zewei YUAN Yan HE Zhuji JIN Pe
• 机 构: SchoolofMechanicalEngineering,KeyLaboratoryforPrecisionandNon-TraditionalMachiningTechnologyofMinist
• 出 处: 中国机械工程学报：英文版
• 发表日期: 2017年2期
• 关键词: CVD 钻石 擦亮的 Tribochemical 连接温度 预言 CVD diamond · Tribochemical polishing 
• 基金项目: National Natural Science Foundation of China（Grant No. 51305278）, Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Education, China（Grant No. 20132102120006）, China Postdoctoral Science Fo

擦亮的 Tribochemcial 是为擦亮 CVD (化学蒸汽免职) 的最有效的方法之一钻石电影由于催化金属的使用。不管多么困难到控制因为不稳定的接触进程，接口温度经常在擦亮进程期间导致低材料移动。这研究因此在 CVD 擦亮的 tribochemical 调查接触过程钻石电影并且为在擦亮的过程预言实际接触区域，实际接触压力，和接口温度建议一个动态接触模型。这个模型被与 Talysurf 描绘 CVD 钻石的表面计量学验证了 CLI2000 3D 表面地形学并且测量擦亮的温度。在擦亮的过程的钻石电影表面上