【摘 要】
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】采用离子（Ｍｇ２＋）扩散的动力学方法，提出了１个区分氧化物（ＳｉＯ２）表面的离子静电吸附量和化学吸附量的方法。实验结果表明，在给定条件下，当温度为２９８Ｋ时，水合ＳｉＯ２表面有０．０４０ｇ／ｋｇＭｇ２＋处于化学吸附态，有０．０８１ｇ／ｋｇ的Ｍｇ２＋处于静电吸附态
【机 构】
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西南农业大学资源环境学院,南京农业大学基础科技学院,西南农业大学资源环境学院
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】采用离子（Ｍｇ２＋）扩散的动力学方法，提出了１个区分氧化物（ＳｉＯ２）表面的离子静电吸附量和化学吸附量的方法。实验结果表明，在给定条件下，当温度为２９８Ｋ时，水合ＳｉＯ２表面有０．０４０ｇ／ｋｇＭｇ２＋处于化学吸附态，有０．０８１ｇ／ｋｇ的Ｍｇ２＋处于静电吸附态。而在３０８Ｋ的温度下，化学吸附态Ｍｇ２＋的数量是０．０４７ｇ／ｋｇ，而静电吸附态的Ｍｇ２＋数量是０．０４６ｇ／ｋｇ。
] A kinetic method based on the diffusion of ions (Mg2 +) was proposed, in which a method of distinguishing the amount of electrostatic adsorption and the amount of chemical adsorption on the surface of oxide (SiO2) was proposed. Experimental results show that under the given conditions, when the temperature is 298K, there are 0.040g / kg Mg2 + in the chemisorbed state on the hydrated SiO2 surface, and 0.081g / kg Mg2 + in the electrostatically adsorbed state. At 308 K, the amount of Mg2 + in the chemisorbed state is 0.047 g / kg, while the amount of Mg2 + in the electrostatically adsorbed state is 0.046 g / kg.
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