（PSTT10／45）4多层薄膜铁电性研究①

• 作 者: 李雪冬 刘洪 吴家刚 刘刚 肖定全 朱建国
• 机 构: 绵阳师范学院物理与电子信息工程系,四川大学材料科学与工程学院
• 出 处: 科技创新导报
• 发表日期: 2015年12期
• 关键词: 多层薄膜 铁电性 电滞回线XRD
• 基金项目: 国家自然科学基金（NO.60771016）,绵阳师范学院科研课题（NO.QD2013A07）.

以LaNiO2做缓冲层，用射频磁控溅射法在Si02／Si（100）衬底上制备出[0．9Pb（Sc0.5；Ta0.5）O3-0．1PbTiO3／0．55Pb（Sc0.5Ta0.5）O3-0．45PbTiO3]4铁电多层薄膜。采用两步法在峰值温度800℃对薄膜进行退火。通过x射线衍射分析了薄膜的物相结构，通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量。研究发现，薄膜展现出高度（100）取向的钙钛矿姑构和增强的铁电性，其剩余极化2Pr=26．2μc／cm2，矫顽场2Ee=53．9kV／cm，100kV／c面