【摘 要】
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本文用富里叶红外光谱及Ｘ射线衍射对在氢氟酸中电解硅片时形成的多孔硅膜进行了分析，发现除了硅以外，其中还有晶态的二氧化硅（鳞石英）存在，由此说明多孔硅表面的硅氧化合物并非都是
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本文用富里叶红外光谱及Ｘ射线衍射对在氢氟酸中电解硅片时形成的多孔硅膜进行了分析，发现除了硅以外，其中还有晶态的二氧化硅（鳞石英）存在，由此说明多孔硅表面的硅氧化合物并非都是样品制备后在大气中氧化造成的，它对多孔硅发光有很大的关系．
In this paper, Fourier transform infrared spectroscopy and X-ray diffraction of hydrofluoric acid in the electrolysis of silicon films formed when the porous silicon film was found, in addition to silicon, there are crystalline silica (tridymite) exists from This shows that not all of the silicon oxide porous silicon surface after sample preparation in the atmosphere caused by oxidation, it has a lot of light on the porous silicon luminescence.
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