【摘 要】
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非平衡磁控溅射技术是属于溅射沉积技术中常见的一类,有着沉积温蒂低、沉积速率高、制得的薄膜表面质量好等优点,广泛使用于无机薄膜涂层制备中。文中简要介绍了采用非平衡磁
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非平衡磁控溅射技术是属于溅射沉积技术中常见的一类,有着沉积温蒂低、沉积速率高、制得的薄膜表面质量好等优点,广泛使用于无机薄膜涂层制备中。文中简要介绍了采用非平衡磁控溅射技术制备多种无机薄膜材料,如氧化钛、类金刚石、碳膜、氮化钛等。
Unbalanced magnetron sputtering is a common type of sputter deposition technology. It has the advantages of low deposition temperature, high deposition rate and good film surface quality. It is widely used in the preparation of inorganic thin film coatings. In this paper, a variety of inorganic thin film materials such as titanium oxide, diamond, carbon film, titanium nitride and so on are briefly introduced by unbalanced magnetron sputtering.
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