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本文报道用微波等离子体沉积／原子氢处理交互进行方法低温制备多晶硅薄膜及其结构特征和光电特性。Ｘ光衍射（ＸＲＤ）、透射电镜（ＴＥＭ）、光吸收、光电导等测量分析表明，柱状晶粒分布致密，呈现良好的（２２０）择优取向生长。税利的光吸收边意味着样品中有很低的带尾态密度，光吸收过程主要由晶粒中电子的带间跃迁所支配，小的光电导激活能说明晶界缺陷密度低，晶界势垒小。所有这些都是由于在薄膜生长过程中引入了氢等离子体