硅烷偶联剂改性蒙脱土的制备及性能研究

• 作 者: 吕斌 段徐宾 高党鸽 马建中
• 机 构: 陕西科技大学资源与环境学院
• 出 处: 陕西科技大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 2014年03期
• 关键词: 硅烷偶联剂 蒙脱土 层间距

采用正交试验法优化了硅烷偶联剂KH550改性钠基蒙脱土(Na-MMT)的工艺,并考察了不同种类硅烷偶联剂对改性蒙脱土的影响.采用X-射线衍射(XRD)、红外光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)及扫描电子显微镜(SEM)对改性Na-MMT进行了表征.XRD、FT-IR与SEM结果表明:硅烷偶联剂KH550、硅烷偶联剂KH570及硅烷偶联剂KH108可以进入到Na-MMT的层间,有效改性Na-MMT;TGA结果表明:改性蒙脱土热损失均大于Na-MMT.三种硅烷偶联剂与Na-MMT结合量的大小顺序为,硅烷偶联剂KH108>硅烷偶联剂KH570>硅烷偶联剂KH550.