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采用螺旋波等离子体辅助溅射沉积法在衬底Al2O3的（0001）面上沉积ZnO薄膜，所生长的薄膜在未退火和退火时表现出不同的平面内取向。未退火时薄膜表现出较好的单筹异质外延生长，而退火后薄膜的中扫描图像中出现了12个峰，这表明退火后薄膜出现反相筹，表现为孪晶生长。重点分析了退火对螺旋波等离子体辅助溅射技术外延ZnO薄膜的结构及表面形貌的影响规律，为外延ZnO薄膜质量的提高及该技术应用的探索奠定基础。