【摘 要】
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本文通过线性电位扫描、循环伏安、交流阻抗等实验方法对弱酸性氯化钾溶液中Zn~2+在铜电极上的沉积行为进行了研究,得到了动力学参数Tafel斜率bc=111mV,反应级数Z=0.95.由此
【机 构】
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华南师范大学化学系,华南师范大学化学系,华南师范大学化学系
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本文通过线性电位扫描、循环伏安、交流阻抗等实验方法对弱酸性氯化钾溶液中Zn~2+在铜电极上的沉积行为进行了研究,得到了动力学参数Tafel斜率bc=111mV,反应级数Z=0.95.由此认为Zn~2+在铜电极上的沉积机理是由两个连续的单电子步骤所组成,且反应的第一步是速度控制步骤.反应过程中生成吸附态的一价锌离子(Zn~+ads)中间体.
In this paper, the deposition behavior of Zn ~ 2 + on copper electrode in weak acid potassium chloride solution was investigated by means of linear potential sweep, cyclic voltammetry and alternating current impedance. The kinetic parameters Tafel slope bc = 111mV, reaction The order Z = 0.95. It is considered that the deposition mechanism of Zn ~ 2 + on the copper electrode is composed of two consecutive single-electron steps, and the first step of the reaction is the speed control step. Monovalent zinc ions (Zn ~ + ads) intermediates.
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