【摘 要】
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研究了ＳｉＯ２化学机械抛光（ＣＭＰ）浆料制备过程中水溶液ｐＨ值、分散时间、搅拌转速、母液浓度、分散工艺等因素对制备及浆料性能的影响，讨论了母液法、直接法分散机理。
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研究了ＳｉＯ２化学机械抛光（ＣＭＰ）浆料制备过程中水溶液ｐＨ值、分散时间、搅拌转速、母液浓度、分散工艺等因素对制备及浆料性能的影响，讨论了母液法、直接法分散机理。
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