AlxGa1—xAs/GaAs多层异质材料中AlxGa1—xAs层氧化特性的实验研究

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本文报道了AlxGa1-xAs/GaAs多层异质外延材料中高Al组份的AlxGa1-xAs层在400-500℃与水汽(携带气体为N2)发生化学反应的氧化特性。其氧化反应是沿着AlxGa1-xAs层从其刻蚀出的台面边界开始横向进行的。AlxGa1-xAs层的氧化速度与AlxGa1-xAs中x值、层厚、水气能量、氧化温度等4个因素有关;根据不同温度下AlAs层氧化反应速度常数,计算出了一定厚度AlAs
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