（100）硅片的各向异性腐蚀及微反射镜的制作

• 作 者: 纪平 潘建旋 徐宝琨 董玮 陈维友 刘彩霞 张歆东 贾翠萍
• 机 构: 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室
• 出 处: 光子学报
• 发表日期: 2002年0Z2期
• 关键词: (100)硅片 各向异性腐蚀 微反射镜 制作工艺 纯KOH水溶液 表面粗糙度 倾角

在（100）硅片上进行各向异性腐蚀时，能暴露垂直的{100}面、倾角为45°的{110}面和倾角54°的{111}面，{111}面是沿着<100>方向形成的，{100}和{110}面是沿着<100>方向形成的。用纯KOH水溶液和KOH+IPA（异丙醇）混合水溶液在（100）硅片上沿<100>方向腐蚀所暴露的平面是不同的，使用纯KOH水溶液总是能暴露与衬底垂直的{100}面，在使用KOH+IPA混合溶液时，当KOH的浓度较低的，暴露与裤底倾角是45℃的