【摘 要】
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扫描电子束曝光技术应用于加工半导体集成电路的研究,开始于六十年代中期。随着电子计算机和半导体集成电路生产发展的需要,近五、六年来扫描电子束曝光设备在性能上有了较
【机 构】
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中国科学院电工研究所,中国科学院电工研究所
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扫描电子束曝光技术应用于加工半导体集成电路的研究,开始于六十年代中期。随着电子计算机和半导体集成电路生产发展的需要,近五、六年来扫描电子束曝光设备在性能上有了较大的飞跃。本文简要地评述国外扫描电子束曝光设备以及密切有关的其他曝光设备的发展现况,列表比较了几种曝光设备的性能和生产能力,并指出了今后的发展趋势。
Scanning electron beam exposure technology used in the processing of semiconductor integrated circuits, began in the mid-1960s. With the development of electronic computers and semiconductor integrated circuits, the performance of scanning electron beam exposure equipment has been greatly leapfrogged in recent five or six years. This article briefly reviews the current developments in foreign scanning electron beam exposure equipment and other closely related exposure equipment, by tabulating the performance and production capabilities of several exposure equipment, and pointing out future trends.
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