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采用低压反应离子镀沉积技术，制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的ＴｉＯ２，ＳｉＯ２和Ａｌ２Ｏ３膜，其折射率分别为２．５５，１．４９和１．６７，比传统的电子束蒸发好得多。用此方法，在ＣＲ３９基片每面沉积４层ＴｉＯ２／ＳｉＯ２抗反薄膜，剩余反射率≤０．５％．本文简要介绍了其工艺过程和相应的ＬＶＲＩＰＤ装置。