碲镉汞光导探测器与材料性能关系探讨

来源 :红外研究(A辑) | 被引量 : 0次 | 上传用户:jpflxy
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本文有针对性地考察了碲镉汞3~5μm12元光导探测器平均电阻R与材料电阻率ρ的关系。碲镉汞材料主要用快速淬火固态再结晶法生长,为与其比较,也少量使用了T_e熔剂和布里奇曼法料。退火的晶片厚度约1mm,77K霍尔数据表明,N型材料占被统计数(122片)的88%,材料参数多数为n=8×10~(14)~8×10~(15)cm~(-3)、μ=1×10~3~5×10~4cm~2/ In this paper, the relationship between the average resistance R and the resistivity ρ of 3 ~ 5μm 12-element photoconductivity detector has been investigated in detail. HgCdTe materials were mainly grown by rapid quenching solid state recrystallization. For comparison, a small amount of T_e flux and Bridgman materials were also used. Annealed wafer thickness of about 1mm, 77K Hall data show that the N-type material accounted for 88% of the statistics (122), the material parameters for the majority of n = 8 × 10 ~ (14) ~ 8 × 10 ~ ~ (-3), μ = 1 × 10 ~ 3 ~ 5 × 10 ~ 4cm ~ 2 /
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