磁约束反应离子蚀刻装置的磁场优化

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ttcj_008
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应用有限元分析方法建立了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布模型.通过研究磁极的配置及磁化方向的调整,对蚀刻装置内部磁场的强度及其分布的均匀性进行了优化研究,获得了在兼顾蚀刻速率和蚀刻均匀性的最优工艺要求.
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