浅结及低浓度掺杂区显示法研究

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一、引言半导体的轮廓显示常采用染色、腐蚀及镀膜技术。迄今为止,这项工作只有凭经验,人们对试样的研究越多,就变得越精通。随着半导体工艺及VI石1技术的发展,结做得越来越浅,而浅结及低浓度掺杂区的显示难度较大,分辨率较差。正因为难度较大,所以我们对此进行了一些实 First, the introduction of semiconductor outline display often use staining, corrosion and coating technology. So far, this work has been based on experience alone, and the more people study the specimen, the more proficient it becomes. With the development of semiconductor technology and VI stone 1 technology, the junction is made more and more shallow, while the shallow junction and the low concentration doped area are more difficult to display and the resolution is poor. It is precisely because of the difficulty that we have done something about this
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