高功率激光器非线性自聚焦效应的补偿

• 作 者: 王韬 朱鹤元 李富铭 徐光 钱列加 范滇元
• 机 构: 复旦大学中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室,
• 出 处: 激光与光电子学进展
• 发表日期: 2001年9期
• 关键词: 高功率激光器 级联非线性过程 聚焦效应 半导体材料 峰值功率 双光子吸收效应 相移 补偿量 高输出 模拟计算 光学元件 砷化镓 积分值 制约 损耗 实验 膜层

高功率激光器中的非线性自聚焦效应是造成光学元件膜层破坏、制约输出峰值功率的主要原因.通常采用B积分值来衡量非线性自聚焦效应的强弱.为了提高输出峰值功率,Roth等利用半导体材料砷化镓所提供的负的非线性相移以补偿自聚焦效应所产生的正非线性相移.但是,采用半导体材料会由于强烈的双光子吸收效应引入较大的损耗,同时这种方法还伴随着补偿量调整的不便.rn本文提出利用二阶级联非线性过程所产生的非线性相移以补偿非线性自聚焦效应.理论模拟计算和实验结果都表明:采用该法可以有效地抵消非线性自聚焦效应.(OB15)