【摘 要】
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为研究退火温度(从室温到500℃)对ZnO薄膜和薄膜晶体管(thin-film transistor,TFT)电性能的影响,使用X射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱和光致发光
【机 构】
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广东省功能材料界面工程研究中心,深圳市特种功能材料实验室,深圳大学材料学院,广东深圳,518060
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为研究退火温度(从室温到500℃)对ZnO薄膜和薄膜晶体管(thin-film transistor,TFT)电性能的影响,使用X射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱和光致发光等技术对ZnO-TFT进行表征.实验结果表明,具有400℃退火温度的ZnO-TFT表现出最佳性能,迁移率为2.7cm2/Vs,阈值电压为4.6V,开/关电流比为5×105,亚阈值摆幅为0.98 V/Dec.电性能的改善可归因于载流子浓度的降低,ZnO膜结晶的增强,以及氧化物半导体层和绝缘层之间界面的改善.
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