【摘 要】
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本文介绍三种变形电子束(可变矩形,可变条形,可变园形)曝光技术的原理及目前发展情况。比较详细地叙述了EL—3,VLS—1000,Waferwriter三种机器的电子光学结构和有关技术。
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本文介绍三种变形电子束(可变矩形,可变条形,可变园形)曝光技术的原理及目前发展情况。比较详细地叙述了EL—3,VLS—1000,Waferwriter三种机器的电子光学结构和有关技术。
This paper introduces the principle and current development of three kinds of deformation electron beam (variable rectangular, variable bar, variable circular) exposure technology. Described in more detail EL-3, VLS-1000, Waferwriter three kinds of machines, electronic optical structure and related technologies.
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