【摘 要】
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本文给出了一种利用局域硅氧化工艺生产静电微米规模电机的新型工艺.这种电机的草图如(1)图所示,它基于五道掩膜工艺,简述如下,具有连续腐蚀到衬底的氮化硅层的淀积和光刻,硅
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本文给出了一种利用局域硅氧化工艺生产静电微米规模电机的新型工艺.这种电机的草图如(1)图所示,它基于五道掩膜工艺,简述如下,具有连续腐蚀到衬底的氮化硅层的淀积和光刻,硅的选择性氧化LOCOS,用于转子电刷的部分选择性氧化物的腐蚀,多晶硅的淀
In this paper, we present a novel process for the production of electrostatic micrometer-size motors using a local silicon oxide process, as shown in (1), which is based on five mask processes and is described below with continuous etching Deposition and lithography of the silicon nitride layer of the substrate, selective oxidation of silicon by LOCOS, corrosion of partially selective oxides for rotor brushes, deposition of polysilicon
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