【摘 要】
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用金属蒸汽真空弧离子(MEVVA)源注入金属离子,能以较低的离子能量而获得较厚的注层.掺杂浓度高,容易诱生金属间化物沉淀,是一种有工业应用价值的强流离子源.讨论了注入原子的
【机 构】
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北京师范大学低能核物理研究所,北京师范大学低能核物理研究所,北京师范大学低能核物理研究所,北京师范大学低能核物理研究所,
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用金属蒸汽真空弧离子(MEVVA)源注入金属离子,能以较低的离子能量而获得较厚的注层.掺杂浓度高,容易诱生金属间化物沉淀,是一种有工业应用价值的强流离子源.讨论了注入原子的状态和分布特征,说明了 MEVVA 源可能的使用前景.
Injecting metal ions with a metal vapor vacuum arc ion (MEVVA) source results in thicker implanted layers with lower ion energies, high doping concentrations that can easily induce precipitation of intermetallic compounds and is an industrially useful The strong current source discussed the state and distribution characteristics of the implanted atoms, indicating possible future use of MEVVA sources.
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