【摘 要】
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阐述了碱性抛光液中磨料的质量传递作用对多层Cu布线化学机械抛光(CMP)过程中抛光速率和抛光后晶圆表面状态的影响,通过对比不同磨料粒径抛光液在3英寸(1英寸=2.54 cm)铜晶圆
【机 构】
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河北工业大学微电子技术与材料研究所,
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阐述了碱性抛光液中磨料的质量传递作用对多层Cu布线化学机械抛光(CMP)过程中抛光速率和抛光后晶圆表面状态的影响,通过对比不同磨料粒径抛光液在3英寸(1英寸=2.54 cm)铜晶圆上的抛光实验结果,分析了不同磨料粒径抛光液的抛光速率以及抛光后晶圆的表面状态,选择了一种粒径为100 nm、质量分数为3%的磨料,粗抛(P1)的抛光速率达到650 nm/min,抛光后晶圆表面粗糙度由10.5 nm降至2.5 nm,大大提高了抛光后晶圆的表面状态以及平坦化效果,可对多层Cu布线CMP过程中磨料的选择提供一定的参考。
The influence of the mass transfer of abrasive in alkaline polishing solution on the polishing rate and the surface state of the wafer after CMP in CMP process was described. By comparing the effect of different abrasive particle size on 3 " Inch = 2.54 cm) on the copper wafers. The polishing rate of the polishing solution with different abrasive particles and the surface state of the wafers after the polishing were analyzed. The results show that the particle size is 100 nm and the mass fraction is 3% Abrasive, rough polishing (P1) polishing rate of 650 nm / min, polished wafer surface roughness decreased from 10.5 nm to 2.5 nm, greatly improving the polished wafer surface state and planarization effect, the multilayer Cu wiring CMP process of choice of abrasive to provide some reference.
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