【摘 要】
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采用激光化学气相沉积（LCVD）技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率（PL）、衬底预热温度（Tpre）和沉积总压力（Ptot）对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射（X
【机 构】
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中国地质大学（武汉）教育部纳米矿物材料及应用工程研究中心材料科学与化学工程学院,日本东北大学金属材料研究所
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采用激光化学气相沉积（LCVD）技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率（PL）、衬底预热温度（Tpre）和沉积总压力（Ptot）对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射（XRD）、俄歇能谱（AES）和场发射扫描电镜（FESEM）对薄膜组成和结构进行了表征.结果表明：所得到的TiNx薄膜成分均匀,其取向与衬底预热温度有关,随着预热温度的升高,TiNx薄膜的取向由（111）变为（200）,薄膜的取向与其微观结构一致.TiNx薄膜的沉积速率随着激光功率升高而增大,在PL=100W时,
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