【摘 要】
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利用同步辐射光源测量Ｎａ２ｓ二次电子部分产额谱得到Ｎａ诱导Ｓｉ（１１１）３×１结构的近边Ｘ射线吸收精细结构（ＮＥＸＡＦＳ）谱，并用原子集团多重散射方法对几种可能的模型进行计算，与实验结果比较，认为Ｎａ／Ｓｉ（１１１）３×１吸附结构与Ｍｎｃｈ模型相
【机 构】
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浙江大学物理系硅材料国家重点实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室
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利用同步辐射光源测量Ｎａ２ｓ二次电子部分产额谱得到Ｎａ诱导Ｓｉ（１１１）３×１结构的近边Ｘ射线吸收精细结构（ＮＥＸＡＦＳ）谱，并用原子集团多重散射方法对几种可能的模型进行计算，与实验结果比较，认为Ｎａ／Ｓｉ（１１１）３×１吸附结构与Ｍｎｃｈ模型相一致．Ｎａ原子吸附在Ｓｉ的顶位，Ｎａ—Ｓｉ键长为０３ｎｍ．
The NEXAFS spectrum of Na induced Si (111) 3 × 1 structure was measured by measuring the yield spectrum of Na2s secondary electrons using synchrotron radiation source, and several possible models were performed by atomic group multiple scattering method Calculated and compared with the experimental results, that the Na / Si (111) 3 × 1 adsorption structure consistent with the Mnch model. Na atoms adsorbed on the top of Si, Na-Si bond length of 0 3nm.
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