利用OMA研究染料分子的表面吸附动力学过程及其荧光淬灭效应

• 作 者: 王亚利 于永澄 方炎
• 机 构: 北京师范学院实验中心,北京师范学院实验中心,北京师范学院实验中心 北京 100037,北京 100037,北京 100037
• 出 处: 光电子·激光
• 发表日期: 1991年03期
• 关键词: 吸附动力学 OMA 染料分子 荧光淬灭 吸附活化能 荧光峰 光学多道分析 时间效应 表面吸附 淬灭

本文利用光学多道分析仪(OMA)研究了若丹明分子(RhB)在银表面吸附并发生荧光淬灭的时间效应,通过理论分析,给出了利用这一结果进行吸附动力学过程研究和表面吸附活化能研究的可能性。同时发现伴随RhB的571.5nm荧光峰快速淬灭的同时,在571.5nm附近又出现了一个迅速增长的新峰,在整个观察时间内,这两个峰的变化过程截然相反,我们对这一现象进行了讨论。