PLD法在c面蓝宝石衬底上制备纤锌矿ZnS外延薄膜

• 作 者: 张蕾 方龙 刘攀克 刘越彦 黎明锴 何云斌
• 机 构: 湖北大学材料科学与工程学院功能材料绿色制备与应用教育部重点实验室
• 出 处: 功能材料
• 发表日期: 2016年5期
• 关键词: 脉冲激光沉积 ZNS薄膜 缓冲层 外延生长 晶体结构 pulsed laser deposition ZnS thin film buffer layer
• 基金项目: 国家自然科学基金资助项目（51002049,61274010）,湖北省教育厅优秀中青年人才资助项目（Q20120104）

采用脉冲激光沉积方法以ZnS为靶材c面蓝宝石为衬底制备了一系列的ZnS薄膜,并采用四圆单晶衍射仪研究了薄膜的晶体结构及其与衬底的取向关系。首先研究了沉积温度对ZnS薄膜质量的影响,结果表明,所有制备的ZnS薄膜均为六方纤锌矿结构;在衬底温度为750℃时所制备的薄膜具有较好的晶体质量,并表现出与蓝宝石衬底明确的外延关系[ZnS（001）∥Al2O3（001）且ZnS（110）∥Al2O3（110）]。进一步研究了在750℃下加入不同厚度的ZnO缓冲层对于ZnS薄膜晶体质量的影响,结果表明在沉积ZnS薄膜前先