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为了解决大面积类金刚薄膜的均匀性，首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线。针对这一目的，做了大量工艺实验，在不同的脉冲离子源电源参数（主回路电压，脉冲频率）、基片高度以及磁场等工艺参数下制备了样品，并选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜分布测量，获得了在各种工艺参数下脉冲离子源所镀膜层厚度的分布曲线。