【摘 要】
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对钯为基底的多层金属膜Ｐｄ／ｚｎ／Ｐｄ与ｐ型ＧａＰ形成的低阻欧姆接触层的表面及界面进行了Ｘ光电子能谱（ｘｐｓ）的分析，由此给出该接触体系表面及界面处的各用分元素、电子结合状态、化学位移情况，同时也分析
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对钯为基底的多层金属膜Ｐｄ／ｚｎ／Ｐｄ与ｐ型ＧａＰ形成的低阻欧姆接触层的表面及界面进行了Ｘ光电子能谱（ｘｐｓ）的分析，由此给出该接触体系表面及界面处的各用分元素、电子结合状态、化学位移情况，同时也分析、讨论了接触层的冶金性质。
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis was performed on the surface and the interface of the low-ohmic ohmic contact layer formed by the Pd-based multi-layered metal film Pd / zn / Pd and the p-type GaP to give the contact surface and At the interface of the use of sub-elements, the electronic bonding state, the chemical shift, but also analyzed and discussed the metallurgical nature of the contact layer.
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