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微加工中的聚焦离子束直接写入技术
微加工中的聚焦离子束直接写入技术
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a226959
【摘 要】
:
概述了聚焦离子束直接写入、离子研磨、离子注入及离子沉积技术.介绍了利用聚焦离子束技术在镀金硅片上研磨出的图案及制作出的各种纳米结构.聚焦离子束诱导沉积技术为将在各
【作 者】
:
Ampere
A.TSENG
苏才钧
周兆英
叶雄英
王晓浩
【机 构】
:
清华大学精密仪器与机械学系
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2003年11期
【关键词】
:
微加工
聚焦离子束
直接写入
蚀刻
微结构
半导体
deposition
direct writing
etching
FIB
implantation
mic
【基金项目】
:
美国国家科学基金
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概述了聚焦离子束直接写入、离子研磨、离子注入及离子沉积技术.介绍了利用聚焦离子束技术在镀金硅片上研磨出的图案及制作出的各种纳米结构.聚焦离子束诱导沉积技术为将在各种科学工程领域应用的多种微结构的实现提供了可能,如聚焦离子束真空封装技术,它可被用来真空封装MEMS器件.
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