【摘 要】
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介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术—极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状,指出了在未来的22nm技术节点极紫外光刻进入量产的
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介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术—极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状,指出了在未来的22nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性。
Introduced the semiconductor industry in the manufacturing technology limit the choice of route, the next generation of lithography - EUV lithography equipment is faced with the challenges and development and application of the status quo, pointed out that in the future 22nm technology node EUV lithography The possibility of mass production.
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