【摘 要】
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本文论述了下游式等离子体在多种 Cu/低 k 材料上去胶及去残留物的工艺应用,主要有3类低 k材料的实验数据——有机类、掺氮氧化物和多孔性低 k 材料,同时论述了在这些对应低
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本文论述了下游式等离子体在多种 Cu/低 k 材料上去胶及去残留物的工艺应用,主要有3类低 k材料的实验数据——有机类、掺氮氧化物和多孔性低 k 材料,同时论述了在这些对应低 k 材料上新的等离子体气氛:(1)中性等离子体;(2)无氧和还原性等离子体;(3)无氧和无氮等离子体。
This paper discusses the downstream applications of plasma on the removal of a variety of Cu / low-k materials and the removal of residue technology, there are three types of low-k material experimental data - organic, nitrogen oxides and porous low-k material , And discusses new plasma atmospheres on these corresponding low-k materials: (1) neutral plasma; (2) anaerobic and reductive plasma; and (3) anaerobic and nitrogen-free plasma.
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