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为制备具有高选择性与亲和性的环丙沙星分子印迹聚合物材料，以环丙沙星（CIP）为模板，三氟甲基丙烯酸（TFMAA）为单体，运用密度泛函理论的LC—WPBE方法和6—31G（d，P）基组，模拟CIP与TFMAA分子印迹自组装体系的构型，研究了不同印迹比例时二者形成复合物的成键情况、反应的结合能，并进行电子密度拓扑分析，探讨CIP与TFMAA相互作用的强弱、原理及分子印迹的溶剂效应。计算结果表明，CIP哌嗪环上的N、喹啉羧酸上的O和H分别与TFMAA上的羧基通过氢键作用形成分子结构相互补的有序状态复合物，CIP